EUV光源工作原理
时间: 2019-03-11 10:10
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获取波长为13.5nm的光是实现EUV光刻的一个重要步骤。激光等离子体(Laser-producedPlasma)极紫外光源(LPP-EUV光源)由于其功率可拓展的特性,成为了EUV光刻最被看好的高功率光源解决方案
获取波长为13.5nm的光是实现EUV光刻的一个重要步骤。激光等离子体(Laser-producedPlasma)极紫外光源(LPP-EUV光源)由于其功率可拓展的特性,成为了EUV光刻最被看好的高功率光源解决方案。这种光源通过将高功率的二氧化碳激光打在直径为30微米的锡液滴上,通过高功率激光蒸发锡滴,然后将蒸汽加热到电子脱落的临界温度,留下离子,再进一步加热直到离子开始发射光子。具体的步骤是多级的CO2激光通过传输与聚焦系统进入真空的EUV光源容器,打在由液滴生成器产生的锡滴上,生成的光经由收集器汇聚形成光源。EUV光刻对于工艺建立工具的要求为100W,对于量产的光源功率要求为250W。为了满足工业使用的高功率、高可靠性的性能要求,需要提高每个元件提取效率,从而获得更稳定、更高的激光器功率。